I. 书写下列反应的化学方程式
（1） 用FeCl₃溶液作为腐蚀液刻制铜印刷电路板                    ；
（2） 工业上粗硅的制取：                     
II. 与量有关的离子方程式书写
（1） Ba(OH)₂溶液与NaHSO₄溶液反应后溶液呈中性：
离子方程式                                    ；
（2） Ca(HCO₃)₂溶液与少量NaOH溶液反应
离子方程式                                    ；
（3） Al₂(SO₄)₃溶液与过量NaOH溶液反应
离子方程式                                    ；
（学法题）书写此类离子方程式的关键是：                 。